Dual Beam Focused Ion Beam zur 3D Materialcharakterisierung

Standort: DB08H11
Tel.: 45220
Geräteverantwortlicher: Prof. Dr. Johannes Bernardi

Anwendungsgebiete:

Chemische Nanoanalytik (100 µm - 10 nm)
Strukturanalyse bis in den nm-Bereich
3D Tomographie für Life Sciences
Zielpräparation für die Transmissionselektronenmikroskopie (TEM) mit nm-Präzision
3D in-situ Analyse von Defekten oder Testbereichen in Metallen, Halbleitern und Keramiken
Präparation und Analyse von porösen Materialien
Präparation und Analyse von Proben bei tiefen Temperaturen auf einer Cryostage
Probenpräparation, -charakterisierung und -analyse bei Drücken bis zu 2600 Pa und hohen Luftfeuchtigkeiten
Aufladungsfreie Abbildung von nichtleitenden Proben im Niedervakuum Bereich bis 130 Pa
Defect repair in Halbleiterstrukturen
Nanomachining, Aufbau von Strukturen im Nanometerbereich durch Abscheidung von Material aus der Gasphase im Ionen- oder Elektronenstrahl

Besonderheiten: Vollwertiges Rasterelektronenmikroskop (ESEM) in Kombination mit einer Focused Ion Beam (FIB)

Spezifikationen:

Elektronenoptik
Emitter	W- Filament
Beschleunigungsspannung	200 V - 30 kV
Auflösung
3.5 nm @ 30 kV @ high vacuum
3.5 nm @ 30 kV @ ESEM mode (<2600 Pa)
15 nm @ 3 kV @ low vacuum mode (< 130 Pa)
Maximaler Strahlstrom	1 µA
Ionenoptik
Ionensäule mit Ga Liquid metal ion source
Auflösung: 10 nm @ 30 kV @ 1 pA
Beschleunigungsspannung	5 kV bis 30 kV
Strahlstrom	1 pA bis 30 nA
Platin- und Wolfram-Metall Deposition
Detektoren
Elektronendetektoren für Sekundär- und Rückstreuelektronen im Hochvakuum-, Low Vacuum- und ESEM Modus
Analytik
Energiedispersives Röntgenanalysen-System (EDAX Pegasus XM4)
OIM System mit DigiVview III EBSD Kamera mit integriertem Forward Scatter Detektor
Zusätze
Polaron Cryoworkstation mit Cryotransfer Einheit und Cryo-Probenbühne	-186°C bis +50°C
Mikromanipulatoren (Kleindiek) mit Rotation-Tip und Microgripper
Force Measurement System